| 发明名称 | 制备氧还原催化剂层的方法 | ||
| 摘要 | 一种氧还原催化剂层以及制备所述氧还原催化剂层的方法，其中所述氧还原催化剂层包含采用物理气相沉积和热处理设置在基底上的催化材料。所述催化材料膜含有基本上不含铂的过渡金属。物理气相沉积和热处理中的至少一个在包括含氮气体的处理环境中进行。 | ||
| 申请公布号 | CN101427405A | 申请公布日期 | 2009.05.06 |
| 申请号 | CN200780014200.0 | 申请日期 | 2007.04.09 |
| 申请人 | 3M创新有限公司 | 发明人 | 丹尼斯·P·奥’布赖恩;艾莉森·K·施默克尔;乔治·D·韦恩斯特伦;拉多斯拉夫·阿塔纳索斯基;托马斯·E·伍德;大卫·G·欧’内尔 |
| 分类号 | H01M4/88(2006.01)I;B01J23/42(2006.01)I | 主分类号 | H01M4/88(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 郇春艳;樊卫民 |
| 主权项 | 1. 一种制备氧还原催化剂层的方法，所述方法包括：将催化材料从第一靶物理气相沉积到基底上，所述第一靶包含基本上不含铂的过渡金属；以及热处理所述催化材料，其中所述物理气相沉积和所述热处理中的至少一个在包括含氮气体的处理环境中进行。 | ||
| 地址 | 美国明尼苏达州 | ||