首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS, CONTROL METHOD OF SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS ,AND STORAGE MEDIUM
摘要
申请公布号 KR20090043451(A) 申请公布日期 2009.05.06
申请号 KR20080105588 申请日期 2008.10.28
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 TAKENAGA YUICHI;KASAI TAKAHITO;OBATA MINORU;TAKEZAWA YOSHIHIRO;YABE KAZUO
分类号 H01L21/20;H01L21/324 主分类号 H01L21/20
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com