改进的化学机械抛光垫及其制造和使用方法

摘要

本发明涉及一种形状记忆化学机械抛光垫，其中该形状记忆化学机械抛光垫包括一处于压缩状态的抛光层。本发明还提供了一种制造形状记忆化学机械抛光垫的方法和使用形状记忆化学机械抛光垫抛光基片的方法。

主权项

1. 一种用于抛光基片的形状记忆化学机械抛光垫，所述基片选自磁性基片、光学基片和半导体基片中的至少一种；所述抛光垫包括：处于压缩状态的抛光层；其中所述抛光层包括一种能在初始形状与设定形状之间转换的形状记忆基质材料；其中在形状记忆基质材料处于初始形状时，所述抛光层具有初始厚度OT；其中在形状记忆基质材料处于设定形状时，所述抛光层处于压缩状态，且具有压缩厚度DT；其中DT≤80％OT；并且其中所述抛光层具有适合抛光基片的抛光表面。