发明名称 | 用于外延膜层形成的集束型设备 | ||
摘要 | 本文提供多种系统、方法以及设置,有关于在外延膜层形成之前,以集束型设备预先清洁基版(在第一处理腔室内使用第一气体),在真空中通过输送腔室将基板从第一处理腔室传送至第二处理腔室,以及不需利用第一气体即在第二处理腔室内的基板上形成外延膜层。还揭示许多额外的方面。 | ||
申请公布号 | CN101415865A | 申请公布日期 | 2009.04.22 |
申请号 | CN200780012517.0 | 申请日期 | 2007.04.06 |
申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | A·V·萨蒙罗弗 |
分类号 | C30B25/12(2006.01)I;C30B25/14(2006.01)I | 主分类号 | C30B25/12(2006.01)I |
代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陆 嘉 |
主权项 | 1. 一种形成外延膜层的方法,其至少包含:在外延膜层形成之前,利用一第一气体预先清洁位在一第一处理腔室内的一基板;在真空下,通过一输送腔室,将该基板从该第一处理腔室传送至一第二处理腔室;以及不需利用该第一气体即可形成一外延膜层在该第二处理腔室中的该基板上。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |