| 主权项 |
1.一种连续式外观多层镀膜设备，系应用于工件外观多层镀膜环境中，该连续式外观多层镀膜设备包含：多个腔体，该些多个腔体对工件之镀膜全采用物理性制程，对该工件进行表面改质处理及/或产生介面层及/或加入一层以上之功能性膜层及/或产生表面硬化层；多个活动式闸门，于该些不同腔体之间以该活动式闸门予以隔离，以避免影响该些个别腔体的真空度及/或洁净度；以及载具，于该些不同腔体之间，利用该载具来传送该工件，其中，于跨该些腔体之间经由载具传送该工件时，将不会破坏该些腔体之真空度及/或洁净度。2.一种连续式外观多层镀膜设备，系应用于工件外观多层镀膜环境中，该连续式外观多层镀膜设备包含：第一腔体，对工件，该第一腔体利用电浆做表面改质处理；第二腔体，该第二腔体利用物理性之蒸镀或溅镀法产生出介面层；一个以上之第三腔体，该一个以上之第三腔体以物理性之蒸镀或溅镀法加入一层以上之功能性膜层；第四腔体，该第四腔体利用蒸镀或溅镀法产生出表面硬化层；多个活动式闸门，于该些不同腔体之间以该活动式闸门予以隔离，以避免影响该些个别腔体的真空度及/或洁净度；以及载具，于该些不同腔体之间，利用该载具来传送该工件，其中，于跨该些腔体之间经由载具传送该工件时，将不会破坏该些腔体之真空度及/或洁净度。3.如申请专利范围第2项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，于该第二腔体利用蒸镀或溅镀法产生出之该介面层为改善该工件与该一层以上之功能性膜层间的附着力。4.如申请专利范围第2项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，于该第四腔体利用蒸镀或溅镀法产生出该表面硬化层来保护该一层以上之功能性膜层。5.一种连续式外观多层镀膜设备，系应用于工件外观多层镀膜环境中，该连续式外观多层镀膜设备包含：多个腔体，该些多个腔体全采用物理性制程，对工件外观进行多层镀膜过程；多个活动式闸门，于该些不同腔体之间以该活动式闸门予以隔离，以避免影响该些个别腔体的真空度及/或洁净度；以及载具，于该些不同腔体之间，利用该载具来传送该工件，其中，于跨该些腔体之间经由载具传送该工件时，将不会破坏该些腔体之真空度及/或洁净度；其中，该对工件外观进行多层镀膜过程，首先，先利用电浆将该工件做表面改质处理；继而，利用蒸镀或溅镀法产生出介面层；接着，以蒸镀或溅镀法将所需要的一层以上之功能性膜层加入；最后，利用蒸镀或溅镀法产生出表面硬化层来保护该一层以上之功能性膜层；其中，该介面层用以改善该工件与该一层以上之功能性膜层间的附着力。6.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该连续式外观多层镀膜设备呈直线排列。7.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该连续式外观多层镀膜设备呈U型排列。8.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该连续式外观多层镀膜设备呈环状排列。9.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该工件镀膜为3C产品外观件镀膜。10.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该工件镀膜为EMI防电磁波干扰镀膜。11.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该工件镀膜为塑胶表面金属镀膜SDC。12.如申请专利范围第1项或第2项或第5项所述之该连续式外观多层镀膜设备，其中，该工件镀膜为铝镁合金镀膜。图式简单说明：第1图为一示意图，用以显示说明于连续式真空镀膜作业之工件入/出区之间的本新型连续式外观多层镀膜设备的位置；第2图为一示意图，用以显示说明如第1图中本新型之连续式外观多层镀膜设备的施行结构；以及第3图为一流程图，用以显示说明利用于第2图中之连续式外观多层镀膜设备，以对工件外观进行多层镀膜的过程。 |
