| 发明名称 | 具有可扩展薄片的杂质屏蔽 | ||
| 摘要 | 一种杂质屏蔽，用于使来自辐射源的辐射通过，并捕获来自所述辐射源的碎片，所述的杂质屏蔽包括从主轴沿径向延伸的许多薄片，每一所述的薄片被定位在包含所述主轴的各自的平面内，其特征在于，该杂质屏蔽包括内环和外环，每一所述的薄片的至少一个外部边缘被可滑动地定位在所述内环和外环至少其中之一的槽中。这样，薄片曝光轻易扩展，并且避免了机械压力，因此薄片没有变形。该薄片的至少一个边缘与环热连接。 | ||
| 申请公布号 | CN100476585C | 申请公布日期 | 2009.04.08 |
| 申请号 | CN200310125192.0 | 申请日期 | 2003.12.22 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | L·P·巴克;M·M·T·M·迪里奇斯;J·M·弗雷里克斯;F·J·P·舒尔曼斯;J·维温科;W·J·博西 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1.一种杂质屏蔽，用于使来自辐射源的辐射通过，并捕获来自所述辐射源的碎片，所述的杂质屏蔽包括从主轴沿径向延伸的许多薄片，每一所述的薄片被定位在包含所述主轴的各自的平面内，其特征在于，该杂质屏蔽包括内环和外环，每一所述的薄片的至少一个外部边缘被可滑动地定位在所述内环和外环至少其中之一的槽中。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||