基板处理装置及基板处理方法

摘要

提供基板处理装置及基板处理方法。在利用处理液对基板进行处理之后，在溶剂环境中使基板干燥的基板处理装置具有：处理槽，用于储存处理液；保持机构，用于保持基板，至少能够在处理槽内的处理位置与位于处理槽上方的干燥位置之间移动；腔室，用于包围处理槽的周围；溶剂蒸气供给部，用于向腔室内供给溶剂蒸气；浓度测定部，用于测定腔室内的溶剂浓度；排出部，用于排出腔室内的气体；控制部，在利用作为处理液的纯水对位于处理槽内的处理位置的基板进行处理之后，通过排出部对腔室内进行减压，并通过溶剂蒸气供给部向腔室内供给溶剂蒸气，在将基板移动至干燥位置的状态下，若溶剂浓度达到规定值，则通过排出部再次对腔室内进行减压。

主权项

1. 一种基板处理装置，在利用处理液对基板进行处理之后，在溶剂环境中使基板干燥，其特征在于，具有：处理槽，其用于储存处理液；保持机构，其用于保持基板，至少能够在所述处理槽内的处理位置与位于所述处理槽的上方的干燥位置之间移动；腔室，其用于包围所述处理槽的周围；溶剂蒸气供给单元，其用于向所述腔室内供给溶剂蒸气；浓度测定单元，其用于测定所述腔室内的溶剂浓度；排出单元，其用于排出所述腔室内的气体；控制单元，其在利用作为处理液的纯水对位于所述处理槽内的处理位置的基板进行处理之后，通过所述排出单元对所述腔室内进行减压，并通过所述溶剂蒸气供给单元向所述腔室内供给溶剂蒸气，在将基板移动至干燥位置的状态下，若溶剂浓度达到规定值，则通过所述排出单元再次对所述腔室内进行减压。