| 发明名称 | 含有光触媒磷灰石的膜、其形成方法、涂布液和具有用该膜被覆的部位的电子设备 | ||
| 摘要 | 含光触媒磷灰石的膜，其含有无机涂布主材、分散于该无机涂布主材中的粉末状的光触媒磷灰石和粉末状的氧化钛，光触媒磷灰石和氧化钛的总含量为0.01～5wt％。 | ||
| 申请公布号 | CN100471569C | 申请公布日期 | 2009.03.25 |
| 申请号 | CN02829581.1 | 申请日期 | 2002.09.17 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 安曾德康;若村正人 |
| 分类号 | B01J35/02(2006.01)I;B01J27/18(2006.01)I | 主分类号 | B01J35/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王 健 |
| 主权项 | 1. 含光触媒磷灰石的膜，其含有作为分散介质的透明的无机涂布主材、分散于该无机涂布主材中的粉末状的光触媒磷灰石和粉末状的氧化钛，所述光触媒磷灰石和所述氧化钛的总含量为0.01～5wt％，所述光触媒磷灰石和所述氧化钛的次级粒径为5μm以下，所述光触媒磷灰石的含量占所述光触媒磷灰石和所述氧化钛的总含量的重量百分比为20～80wt％，所述光触媒磷灰石具有钙羟基磷灰石的Ca的一部分被Ti取代的化学结构。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||