发明名称 |
感光性化合物、感光性组成物、抗蚀图案形成方法及装置制造方法 |
摘要 |
本发明揭示于分子内含有二或多个下式(1)所示之结构单元之感光性化合物:#P 097104645P01.bmp其中R#sB!1#eB!至R#sB!10#eB!系选自氢原子、卤原子、烷基、烷氧基、苯基或基,且烷基中部分或全部氢原子系经氟原子取代;且,X系经取代或未经取代之苯撑基或经取代或未经取代之撑基。 |
申请公布号 |
TW200912538 |
申请公布日期 |
2009.03.16 |
申请号 |
TW097104645 |
申请日期 |
2008.02.05 |
申请人 |
佳能股份有限公司 |
发明人 |
伊藤俊树;山口贵子 |
分类号 |
G03F7/039(2006.01);C07C49/84(2006.01);C08F8/28(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |