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发明名称
半导体装置
摘要
本发明之半导体装置系包含:半导体基板;第1绝缘膜,其系形成于前述半导体基板上,具有使前述半导体基板局部地露出之接触孔;第1铝布线,其系形成于前述第1绝缘膜上,经由前述接触孔连接于前述半导体基板;第2绝缘膜,其系形成于前述第1铝布线上,具有使前述第1铝布线局部地露出之通孔;及第2铝布线,其系形成于前述第2绝缘膜上,经由前述通孔连接于前述第1铝布线;在前述通孔之与前述半导体基板之对向区域内,配置有复数之前述接触孔。
申请公布号
TW200913140
申请公布日期
2009.03.16
申请号
TW097118955
申请日期
2008.05.22
申请人
罗姆股份有限公司
发明人
荫山聪;日野真毅
分类号
H01L21/768(2006.01);H01L23/522(2006.01);H01L21/3205(2006.01)
主分类号
H01L21/768(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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