| 发明名称 | 掩模基板及光掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供适于FPD用大型掩模的方法(抗蚀剂涂覆方法或蚀刻方法、洗涤方法等)的掩模基板和光掩模。其为用于制造在透光性基板上具有遮光性膜和具有调整透射量的功能的半透光性膜中至少一个的FPD设备的掩模基板，其特征在于，上述遮光性膜和上述半透光性膜的膜表面的均方根粗糙度Rq为2.0nm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101384957A | 申请公布日期 | 2009.03.11 |
| 申请号 | CN200780005734.7 | 申请日期 | 2007.02.15 |
| 申请人 | HOYA株式会社 | 发明人 | 三井胜;佐野道明;牛田正男 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F1/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1. 一种用于制造FPD设备的掩模基板，其为用于制造在透光性基板上具有遮光性膜及具有调整透射量的功能的半透光性膜中至少一个的FPD设备的掩模基板，其特征在于，所述遮光性膜和所述半透光性膜的膜表面的均方根粗糙度Rq为2.0nm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||