发明名称 具有至少3层高-K介电层的模拟电容器和制造它的方法
摘要 提供一种具有至少3层高-k介电层的模拟电容器和制造它的方法。该模拟电容器包含下电极、上电极、置于下电极与上电极之间的至少3层高-k介电层。该至少3层高-k介电层包含接触下电极的底介电层、接触上电极的顶介电层和置于底介电层与顶介电层之间的中介电层。而且,各底介电层和顶介电层是,与中介电层相比,VCC的二次系数的绝对值相对低的高-k介电层,中介电层是,与底介电层和顶介电层相比,漏电流相对低的高-k介电层。因此,由于使用至少3层高-k介电层,可以使模拟电容器的VCC特性和漏电流特性最佳。
申请公布号 CN100468622C 申请公布日期 2009.03.11
申请号 CN200410082530.1 申请日期 2004.09.20
申请人 三星电子株式会社 发明人 郑镛国;元皙俊;权大振;金元洪
分类号 H01L21/02(2006.01)I;H01G4/00(2006.01)I;H01G4/018(2006.01)I;H01G13/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/02(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张平元;赵仁临
主权项 1. 一种模拟电容器,包含:a)下电极;b)面对下电极的上电极;和c)置于下电极与上电极之间的至少3层高-k介电层,该至少3层高-k介电层包含:i)接触下电极的底介电层;ii)接触上电极的顶介电层;和iii)置于底介电层与顶介电层之间的中介电层,其中各底介电层和顶介电层是,与中介电层相比,电容电压系数(VCC)的二次系数的绝对值相对低的高-k介电层,并且中介电层是,与底介电层和顶介电层相比,漏电流相对低的高-k介电层,其中漏电流相对低的中介电层是选自HfO2、ZrO2和La2O3层的材料层。
地址 韩国京畿道