发明名称 |
形成一半导体结构的方法 |
摘要 |
本发明提供一种形成一半导体结构的方法。该半导体装置包含有一基底、至少一孔穴墙、一粘着层以及一封装层。该基底具有至少一晶粒。该孔穴墙与该基底相接触,且设置于该晶粒的四周。该粘着层设于该孔穴墙上。该封装层设于该基底上,且该封装层与该粘着层相接触。本发明所述的形成一半导体结构的方法,可以提高良率并降低成本。 |
申请公布号 |
CN100463203C |
申请公布日期 |
2009.02.18 |
申请号 |
CN200610057897.7 |
申请日期 |
2006.03.03 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
游秀美;黄志恭;游建桐;陈永昌 |
分类号 |
H01L27/146(2006.01);H01L23/31(2006.01);H01L21/56(2006.01) |
主分类号 |
H01L27/146(2006.01) |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所 |
代理人 |
刘新宇 |
主权项 |
1.一种形成一半导体结构的方法,其特征在于,该形成一半导体结构的方法包含有:提供一基底,具有至少一晶粒;形成多个孔穴墙于该基底上,该孔穴墙是设置于该晶粒的四周,且以一环氧化树脂构成,其中围绕一晶粒的孔穴墙与围绕另一晶粒的孔穴墙相分隔;以及将一封装层粘贴封住该孔穴墙上。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路八号 |