| 发明名称 | 具有抗反射涂层的集成电路 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于在集成电路上形成抗反射涂层的方法和材料。优选实施例包含在反射表面上施加暗聚合物材料(205)，固化所述暗聚合物材料(210)，且粗糙化所述暗聚合物材料的顶部表面(215)。可通过在灰化腔室中灰化所述暗聚合物材料来实现所述粗糙化。所述暗聚合物材料(优选为黑基质树脂或聚酰亚胺黑基质树脂)当在富氧气氛中灰化并持续较短时期时形成能够吸收光以及随机折射其不吸收的光的表面。可在所述经灰化的暗聚合物材料的顶部上形成保护覆层，以提供对所述暗聚合物材料的保护(220)。 | ||
| 申请公布号 | CN101371350A | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN200680052705.1 | 申请日期 | 2006.12.11 |
| 申请人 | 德州仪器公司 | 发明人 | 贾森·迈克尔·奈德理奇 |
| 分类号 | H01L21/8242(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8242(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 刘国伟 |
| 主权项 | 1.一种集成电路，其至少一部分上具有抗反射涂层，所述涂层包含上覆于反射表面的暗聚合物材料，其中通过粗糙化所述暗聚合物材料的顶部表面来增强所述暗聚合物材料的抗反射率。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯州 | ||