发明名称 | 基板处理方法、基板处理装置、程式、记录媒体及置换剂 | ||
摘要 | 本发明之课题为:提供一种在使用复数种液体的基板处理方法中,可将使用液体的处理后残留于基板上的该液体,利用接下来使用的液体迅速且确实地加以置换之基板处理方法。本发明之解决手段为:基板处理方法具备:利用处理液处理基板W的步骤;和将置换液供给至基板上,用置换液来置换残留于基板上之处理液的步骤。置换步骤中所使用的置换液具有比处理液的表面张力更小的表面张力,且具有与处理液的密度相同的密度。 | ||
申请公布号 | TW200908105 | 申请公布日期 | 2009.02.16 |
申请号 | TW097110371 | 申请日期 | 2008.03.24 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 广城幸吉;户岛孝之 |
分类号 | H01L21/30(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/30(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |