形成图样之方法

摘要

一种形成图样之方法，包括：提供一基板；形成复数个种构件于该基板上；形成至少一双膜层结构，该双膜层结构包括形成于该些种构件上之一第一膜层以及形成于该第一膜层上之一第二膜层；移除位于该些种构件上之该第一膜层与该第二膜层；以及连续地且非等向地蚀刻该第一膜层与该第二膜层至少一次以形成邻近于该些种构件之一开口。