发明名称 电子照相带及其制造方法、电子照相装置及中间转印带
摘要 电子照相带及其制造方法、电子照相装置及中间转印带,该电子照相带包括:基层,该基层包含热塑性树脂并在Taber磨耗试验(ASTM D-1175;载荷4.9N,500转)后具有大于等于0.30%的质量损失百分比;以及通过涂覆在该基层上形成的固化树脂膜,该固化树脂膜包含导电粒子并具有大于等于0.5μm至小于等于3.0μm的厚度。该固化树脂膜在Taber磨耗试验后在其表面具有小于等于0.050%的质量损失百分比。电子照相带具有满足下列表达式(1)、(2)和(3)的体积电阻率ρv(Ω·cm)和表面电阻率ρs(Ω/平方):10<SUP>6</SUP>≤ρv≤10<SUP>10</SUP> (1),10<SUP>8</SUP>≤ρs≤10<SUP>13</SUP> (2),ρs/ρv≥10<SUP>2</SUP> (3)。
申请公布号 CN100461026C 申请公布日期 2009.02.11
申请号 CN200610078110.5 申请日期 2006.04.26
申请人 佳能株式会社 发明人 金井卓
分类号 G03G15/16(2006.01);G03G15/00(2006.01) 主分类号 G03G15/16(2006.01)
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所 代理人 刘新宇
主权项 1.一种电子照相带,其包括:基层,该基层包含热塑性树脂并在ASTM D-1175、载荷4.9N、500转条件下的Taber磨耗试验后具有大于等于0.30%的质量损失百分比;以及通过涂覆在所述基层上形成的固化树脂膜,该固化树脂膜包含导电粒子并具有大于等于0.5μm至小于等于3.0μm的厚度;所述固化树脂膜在ASTM D-1175、载荷4.9N、500转条件下的Taber磨耗试验后在其表面具有小于等于0.050%的质量损失百分比;以及所述电子照相带具有满足下列表达式(1)、(2)和(3)的单位为Ω·cm的体积电阻率ρv和在所述固化树脂膜的所述表面处的单位为Ω/平方的表面电阻率ρs:106≤ρv≤1010 (1),108≤ρs≤1013 (2),ρs/ρv≥102 (3)。
地址 日本东京都