| 发明名称 | 掩膜板及掩膜板的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种掩膜板，该掩膜板包括透光基板，所述透光基板上具有至少一个对曝光光线具有遮光性的图形区域，其中，至少一个所述图形区域内的透光基板上设置有相移光栅的开槽，且所述开槽对曝光光线具有透光性。本发明还公开了该掩膜板相应的形成方法，采用本发明的掩膜板，可以提高光刻工艺的分辨率、焦深及图形对比度，加大工艺窗口。 | ||
| 申请公布号 | CN101359167A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200710044566.4 | 申请日期 | 2007.07.31 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 张飞 |
| 分类号 | G03F1/00(2006.01);G03F1/14(2006.01) | 主分类号 | G03F1/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 逯长明 |
| 主权项 | 1、一种掩膜板，包括透光基板，所述透光基板上具有至少一个对曝光光线具有遮光性的图形区域，其特征在于：至少一个所述图形区域内的透光基板上设置有相移光栅的开槽，且所述开槽对曝光光线具有透光性。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 | ||