| 发明名称 | 光波导膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 光波导膜配备：具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为0.1微米～2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25℃的储存弹性模量为10兆巴～100兆巴。 | ||
| 申请公布号 | CN101359069A | 申请公布日期 | 2009.02.04 |
| 申请号 | CN200810144283.1 | 申请日期 | 2008.07.30 |
| 申请人 | 日东电工株式会社 | 发明人 | 疋田贵巳;程野将行;长崎国夫 |
| 分类号 | G02B6/122(2006.01);G02B6/13(2006.01) | 主分类号 | G02B6/122(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张鑫 |
| 主权项 | 1、一种光波导膜，其特征在于，配备：具有包层和被所述包层覆盖的芯层的膜；以及粘着剂层，该粘着剂层形成在所述膜的至少单面，并在表面具有算术平均粗糙度为0.1微米～2.0微米的凹凸结构，而且频率1赫的扭转模式动态粘弹性测量得到的25℃的储存弹性模量为10兆巴～100兆巴。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||