曝光设备及装置制造方法

摘要

一种曝光设备，系配备有投射光学系统，投射光学系统系组构成将原版的图案投射至基底上，曝光设备包含：干涉仪，系组构来测量通过投射光学系统之第一方向的波前及第二方向上的波前；焦点侦测单元，系组构来侦测投射光学系统的第一及第二方向上的焦点位置；及计算单元，系组构成根据干涉仪的测量结果及焦点侦测单元的侦测结果以计算投射光学系统的波前像差。