发明名称 被膜形成方法及其所使用之树脂组成物,具有绝缘膜之构造物及其制造方法与电子构件
摘要 本发明之目的,提供一种被膜形成方法,其系对于在设置于段差矽基板等细微之有底之孔部或沟部之内壁面或底面,可高精度且容易地形成均匀之被膜,及其所使用之树脂组成物、具有绝缘膜之构造物及其制造方法与电子零件。本发明之被膜形成方法,系具备:[1]在具有(a)开口部之面积为25~10000μm#sP!2#eP!且深度为10~200μm之孔部11及(b)开口部之线宽为5~200μm且深度为10~200μm之沟部12之内之至少一者之段差基板1,涂布溶剂13之溶剂涂布步骤、[2]将正型感光性树脂组成物,以与孔部11及沟部12内之溶剂13接触之方式,涂布于段差基板1之树脂组成物涂布步骤、与[3]将涂膜14乾燥之乾燥步骤,且在孔部11与沟部12之内壁面及底面形成含树脂成分之被膜16。
申请公布号 TW200905397 申请公布日期 2009.02.01
申请号 TW097111057 申请日期 2008.03.27
申请人 JSR股份有限公司 发明人 奥田隆一;田边隆喜;后藤宏文
分类号 G03F7/039(2006.01);H05K3/00(2006.01);H05K3/40(2006.01) 主分类号 G03F7/039(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本