| 发明名称 | 光刻用防护薄膜组件 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种光刻用防护薄膜组件，其目的在于达到即使在掩模上粘贴防护薄膜组件，掩模也不会产生应变的效果。在本发明的光刻用防护薄膜组件中，用来将防护薄膜组件粘贴于掩模上的掩模黏着剂具有平坦面，且该面的平坦度在15μm以下。 | ||
| 申请公布号 | CN101349873A | 申请公布日期 | 2009.01.21 |
| 申请号 | CN200810125314.9 | 申请日期 | 2008.06.18 |
| 申请人 | 信越化学工业株式会社 | 发明人 | 白崎享 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种光刻用防护薄膜组件，其特征为：在使用于半导体光刻的防护薄膜组件中，用来将该防护薄膜组件粘贴于掩模上的掩模黏着剂具有平坦的面，且该面的平坦度在15μm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||