发明名称 |
使用空间光调制器阵列的无掩模光刻系统和方法 |
摘要 |
一种用于在目标物上写入图案的无掩模光刻系统。该系统可包括照明系统,目标物,空间光调制器(SLM),和控制器。在目标物接收光之前,SLM可使来自照明系统的光形成图案。SLM可包括前组SLM和后组SLM。前和后组中的SLM根据目标物的扫描方向而改变。控制器可根据光脉冲期间信息,有关SLM物理布局信息,和目标物扫描速度其中至少之一,来发送控制信号。通过使用多种方法,该系统还可校正剂量的非均匀性。 |
申请公布号 |
CN101344732A |
申请公布日期 |
2009.01.14 |
申请号 |
CN200810214913.8 |
申请日期 |
2004.05.28 |
申请人 |
ASML控股股份有限公司 |
发明人 |
阿诺·布里克;温斯莱奥·A.·切布海尔;贾森·D·亨特斯坦;安德鲁·W·麦卡罗;所罗门·S·沃瑟曼 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1.一种用于在无掩模光刻中控制剂量的方法,包括如下步骤:测量来自SLM的一系列脉冲中每个脉冲中所传递的剂量;基于测量步骤计算剂量差错;基于剂量差错计算校正覆盖剂量;和利用最后一组SLM来应用校正覆盖剂量。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |