| 发明名称 |
含矽之膜形成用材料，含矽之绝缘膜及其形成方法，化合物，暨有机矽化合物之制造方法 |
| 摘要 |
本发明的含矽之膜形成用材料，系含有下述一般式(1)所示之至少1种有机矽烷化合物。#P 097105118P01.bmp(式中，R#sP!1#eP!~R#sP!6#eP!系指相同或互异的氢原子、碳数1~4的烷基、乙烯基、苯基、卤原子、羟基、乙醯氧基、苯氧基、或烷氧基，且R#sP!1#eP!~R#sP!6#eP!中至少一者系卤原子、羟基、乙醯氧基、苯氧基、或烷氧基；n系指0~3的整数。) |
| 申请公布号 |
TW200900414 |
申请公布日期 |
2009.01.01 |
| 申请号 |
TW097105118 |
申请日期 |
2008.02.14 |
| 申请人 |
ＪＳＲ股份有限公司 |
发明人 |
中川恭志;野边洋平;加藤仁史;石附健二;小久保辉一 |
| 分类号 |
C07F7/18(2006.01);C07F7/08(2006.01);C23C16/42(2006.01);H01L21/312(2006.01) |
主分类号 |
C07F7/18(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
