Vorrichtung zum Beschichten von auf einem Suszeptor angeordneten Substraten

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mit einer in einem Reaktorgehäuse angeordneten Prozesskammer (1) und einem darin angeordneten, im Wesentlichen topfförmigen Suszeptor (2, 3), wobei die Topfbodenrückseite (4) nach oben zur Prozesskammer (1) weist und sich die Topfseitenwandung mit einer im Bereich der Topföffnung angeordneten Stützflanke (5) auf einem Suszeptorträger (6) abstützt. Zur gebrauchsvorteilhaften Weiterbildung wird vorgeschlagen, dass der Suszeptor aus zwei voneinander trennbaren Teilen besteht, wobei ein ringförmiger unterer Teil (3) des Suszeptors zumindest einen die Stützflanke (5) ausbildenden Abschnitt der Topfseitenwandung ausbildet und ein oberer Teil des Suszeptors (2) zumindest den gesamten Topfboden (2') des Suszeptors ausbildet.