| 发明名称 |
Verfahren zum Herstellen von Halbleiterbauelementen |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CH444828(A) |
申请公布日期 |
1967.10.15 |
| 申请号 |
CH19640006975 |
申请日期 |
1964.05.28 |
| 申请人 |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT |
发明人 |
HEYWANG,WALTER,DR. |
| 分类号 |
H01L21/00;H01L23/29;(IPC1-7):H01L7/02 |
主分类号 |
H01L21/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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