发明名称 |
PROCESSO PARA A ALIMPEZA QUIMICA E COM PLASMA DE SUBSTRATOS METALICOS PARA POSTERIOR REVESTIMENTO POR DISPOSICAO FISICA DE VAPOR (PVD) OU DIPOSICAO QUIMICA DE VAPOR REFORCADA COM PLASMA (PECVD) |
摘要 |
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申请公布号 |
PT99399(A) |
申请公布日期 |
1993.11.30 |
申请号 |
PT19910099399 |
申请日期 |
1991.10.31 |
申请人 |
THYSSEN EDELSTAHLWERKE AG |
发明人 |
MICHAEL FOLLER;CARL-STEFAN THONE |
分类号 |
C23C14/02;C23C16/02;C23G5/00;(IPC1-7):C23C14/02 |
主分类号 |
C23C14/02 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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