| 摘要 |
Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie zum Abbilden einer in einer Objektebene (O) angeordneten Struktur auf ein in einer Bildebene (B) angeordnetes Substrat, mit einer Anordnung (12) optischer Elemente zwischen der Objektebene (O) und der Bildebene (B), wobei die Anordnung der optischen Elemente eine retikelnahe Pupillenebene (P<SUB>1</SUB>) aufweist, wobei die Anordnung (12) ferner zumindest eine Aperturblende (AP) aufweist, deren Blendenöffnung veränderbar ist, und die vom Abbildungslicht nur einmal durchtreten wird, wobei die zumindest eine Aperturblende (AP) innerhalb der Anordnung (12) der optischen Elemente zumindest optisch nahngeordnet ist, und wobei sich in unmittelbarer Nähe der Aperturblende (AP) ein Pupillenfilter (PF) befindet.
|
