发明名称 |
感光性聚硅氮烷组合物、采用该组合物形成图案的方法及烧结其涂层膜的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种正型感光聚硅氮烷组合物,其包含:一种改性的聚硅倍半氮烷,其数均分子量为100-100,000,并且包含由下式表示的基本组成单元:-[SiR<SUP>6</SUP>(NR<SUP>7</SUP>)<SUB>1.5</SUB>]-和由下式表示的其它组成单元:-[SiR<SUP>6</SUP><SUB>2</SUB>NR<SUP>7</SUP>]-和/或-[SiR<SUP>6</SUP><SUB>3</SUB>(NR<SUP>7</SUP>)<SUB>0.5</SUB>]-,所述其它组成单元与基本组成单元的比例为0.1-100摩尔%(在上式中,R<SUP>6</SUP>和R<SUP>7</SUP>独立地表示氢、C<SUB>1-3</SUB>烷基或取代或未取代的苯基),组合物还包含一种光致酸产生剂。组合物优选包含一种作为形状稳定剂的水溶性化合物。将组合物涂敷至基底上并进行形成图案的曝光。曝光后的涂层膜润湿并用碱性水溶液进行显影。将所得到的图案整体曝光,接着再次润湿,然后烧结。因此,在短时间内,可得到具有满意特性且可用作层间电介质的精细二氧化硅基陶瓷薄膜。 |
申请公布号 |
CN100395662C |
申请公布日期 |
2008.06.18 |
申请号 |
CN01802578.1 |
申请日期 |
2001.08.24 |
申请人 |
AZ电子材料(日本)株式会社 |
发明人 |
长原达郎;松尾英树 |
分类号 |
G03F7/38(2006.01);G03F7/40(2006.01);G03F7/075(2006.01);G03F7/004(2006.01);C08L83/16(2006.01);C08K5/3492(2006.01);C08K5/42(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/38(2006.01) |
代理机构 |
北京三幸商标专利事务所 |
代理人 |
刘激扬 |
主权项 |
1.一种形成具图案的聚硅氮烷膜的方法,包括对涂层膜进行曝光然后显影,该涂层膜通过涂敷或印刷感光性聚硅氮烷组合物至基底上形成,该组合物包含聚硅氮烷和光致酸产生剂,其特征在于,使曝光后的感光性聚硅氮烷涂层膜与含水蒸气且对基底温度的相对湿度为35%RH至90%RH的气体接触以对该涂层膜进行润湿处理,然后进行显影。 |
地址 |
日本国东京都(113-0021)文京区本驹込二丁目28番8号文京格林办公大楼 |