蚀刻图案之形成方法及由该方法制造所得之半导体装置

摘要

藉由本发明之实施形态，可提供一种阻障图案之形成方法，其系于形成有被加工膜之半导体装置的基板上配置物镜，于物镜与基板之间形成液膜并进行曝光之液浸曝光者，其特征在于，将经至少包含拨水化剂与溶剂之拨水化剂药液处理的基板予以曝光。