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发明名称
用于微影工具上的系统与方法
摘要
一种用于半导体制造之系统,包含一制程工具,一缓冲器,一输入负载埠,一输出负载埠,与一轨径模组。制程工具系用以处理晶圆;缓冲器与制程工具相连接,系用以容纳等待制程工具所处理之晶圆;输入负载埠与缓冲器相连接,系用以将待处理的晶圆由载入容器送入晶圆;输出负载埠与该制程工具相连接,系用以将制程工具处理完成的晶圆送到一载出容器;轨径模组系用以运送晶圆在缓冲器、制程工具与输入与输出负载埠之间。本发明亦揭露一种用于半导体制造之方法。
申请公布号
TW200849324
申请公布日期
2008.12.16
申请号
TW096151484
申请日期
2007.12.31
申请人
台湾积体电路制造股份有限公司
发明人
古杰焕;陈永和;林志昌;彭春明
分类号
H01L21/02(2006.01);G03F7/20(2006.01)
主分类号
H01L21/02(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
新竹市新竹科学工业园区力行六路8号
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