发明名称 Chemical mechanical polishing equipment
摘要
申请公布号 KR100872714(B1) 申请公布日期 2008.12.05
申请号 KR20030100567 申请日期 2003.12.30
申请人 发明人
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
地址