发明名称 | 场发射式光源装置 | ||
摘要 | 一种场发射式光源装置,其具有发光区与非发光区。此光源装置包括第一基板、第二基板、阴极结构、闸极结构、发射源、阳极层、萤光层、吸气剂、阻绝装置与密封件。阴极结构位于发光区且配置在第一基板上。发射源是位于阴极结构上。阳极层配置在第二基板上。萤光层配置于阳极层上。吸气剂位于非发光区且配置在第一与第二基板的其中之一上。阻绝装置配置于发光区与非发光区之间。密封件配置于第一与第二基板之间。阻绝装置可阻绝吸气剂于活化时所喷出的金属离子进入发光区。 | ||
申请公布号 | TW200847843 | 申请公布日期 | 2008.12.01 |
申请号 | TW096119084 | 申请日期 | 2007.05.29 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 傅传旭;萧云娇 |
分类号 | H05B33/10(2006.01) | 主分类号 | H05B33/10(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹县竹东镇中兴路4段195号 |