发明名称 场发射式光源装置
摘要 一种场发射式光源装置,其具有发光区与非发光区。此光源装置包括第一基板、第二基板、阴极结构、闸极结构、发射源、阳极层、萤光层、吸气剂、阻绝装置与密封件。阴极结构位于发光区且配置在第一基板上。发射源是位于阴极结构上。阳极层配置在第二基板上。萤光层配置于阳极层上。吸气剂位于非发光区且配置在第一与第二基板的其中之一上。阻绝装置配置于发光区与非发光区之间。密封件配置于第一与第二基板之间。阻绝装置可阻绝吸气剂于活化时所喷出的金属离子进入发光区。
申请公布号 TW200847843 申请公布日期 2008.12.01
申请号 TW096119084 申请日期 2007.05.29
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 傅传旭;萧云娇
分类号 H05B33/10(2006.01) 主分类号 H05B33/10(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号