| 摘要 |
揭露一方法与装置，其可包含预测为了一光学微影术制程为了一气体放电雷射光源的气体寿命，包含一包括雷射气体之一卤素的光源可包含：使用多数个雷射运转输入与/或输出参数的至少一个、使用一组至少一在光学微影术制程中使用的参数来决定一关于各别输入或输出参数的气体使用模型，以及根据模型与一各别输入或输出参数的测量来预测气体寿命的末端。该参数可包含一脉冲使用图形。该方法与装置可包含为了一光学微影术制程为了一气体放电雷射光源执行气体管理，包含一包括雷射气体之卤素的光源包含：使用周期性与频繁的部分气体再充满，其包含一注入，该注入包括一卤素气体与大量气体的混合物，一般与在一完全气体再充满中提供给雷射之预先混合比例的配给量相同，且数量少于在注入前的总气压之两个百分比。 |
