发明名称 半导体元件的熔丝
摘要 一种半导体元件的熔丝结构,包括在半导体基底上,夹于上下绝缘层中的一熔丝层,其借着介层洞与其它金属层电性相连,熔丝层的电阻系数可以藉其形成材料而调整。熔丝层具有多个互相分离的区块,至少一连结区块与至少一热缓冲区块,而热缓冲区块与烧熔点附近的区块或具烧熔点的区块相耦接,而提供一条新的热传导路径。当面积较狭窄的连结区块因为流经电流密度较高而有过热之虞时,热缓冲区块与其相耦接的区块,则可将烧熔点附近所产生的热均匀分布,而有助于散热。
申请公布号 CN100438020C 申请公布日期 2008.11.26
申请号 CN200510099537.9 申请日期 2005.09.13
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 郑钧文;梁佳文;李瑞池;薛胜元
分类号 H01L23/62(2006.01);H01L23/525(2006.01);H01L27/00(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/82(2006.01);G11C17/14(2006.01);G11C17/16(2006.01) 主分类号 H01L23/62(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 陶凤波;侯宇
主权项 1、一种半导体元件的熔丝,包括:一第一绝缘层,形成在一半导体基底上;一熔丝层,形成于该第一绝缘层上,其中该熔丝层为具有多个区块,包括一第一区块、一第二区块、一第三区块、一第四区块以及连接第一区块与第四区块的一连结区块,其中第二区块与第三区块为位于第一区块与第四区块之间,该连结区块位于第二区块与第三区块之间,但与第二区块与第三区块并不相连,而除了该连结区块连接第一区块与第四区块外,其它区块彼此并不相连;一第二绝缘层,形成在该熔丝层上,其中该第二绝缘层包含多个介层插塞;以及一顶部金属层,形成在该第二绝缘层上而与该些介层插塞相连接,其中该顶部金属层包括一热缓冲区块,而该热缓冲区块透过多个介层插塞与第二区块与第三区块耦接,但该热缓冲区域与第一区块与第四区块并不耦接。
地址 台湾省新竹科学工业园区