发明名称 |
基板检查装置和基板检查方法 |
摘要 |
本发明提供一种基板检查装置,该基板检查装置检查在基板上的由在第一层上叠层与该第一层的组成不同的第二层而形成的叠层结构上,以该第二层的一部分露出的方式而形成的图案的缺陷,其具有:向上述基板上照射1次电子的电子发射单元;检测由上述1次电子的照射而生成的2次电子的电子检测单元;对由上述电子检测单元检测出的2次电子的数据进行处理的数据处理单元;和控制上述1次电子的加速电压的电压控制单元,其中,上述电压控制单元控制加速电压,使上述1次电子在露出上述第二层的部分,到达上述第一层与上述第二层的界面附近以外的上述第一层或上述第二层中。 |
申请公布号 |
CN101313398A |
申请公布日期 |
2008.11.26 |
申请号 |
CN200780000265.X |
申请日期 |
2007.01.25 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
齐藤美佐子;林辉幸 |
分类号 |
H01L21/66(2006.01);G01N23/225(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/66(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种基板检查装置,其特征在于,该基板检查装置检查在基板上的由在第一层上叠层与该第一层的组成不同的第二层而形成的叠层结构上,以该第二层的一部分露出的方式而形成的图案的缺陷,其具有:向所述基板上照射1次电子的电子发射单元;检测由所述1次电子的照射而生成的2次电子的电子检测单元;对由所述电子检测单元检测出的2次电子的检测数据进行处理的数据处理单元;和控制所述1次电子的加速电压的电压控制单元,其中,所述电压控制单元控制加速电压,使照射在露出的所述第二层的所述1次电子到达所述第一层与所述第二层的界面附近以外的所述第一层或所述第二层中。 |
地址 |
日本东京都 |