发明名称 单层膜及由其构成的亲水性材料
摘要 本发明涉及一种单层膜,所述单层膜具有选自磺酸基、羧基及磷酸基中的至少1种阴离子性亲水基团,该单层膜的表面中的阴离子浓度(Sa)和深部中的阴离子浓度(Da)的阴离子浓度比(Sa/Da)在1.1以上。此单层膜是聚合下述组合物得到的水接触角在30°以下的共聚物,所述组合物含有通式(1)表示的化合物(I)和1分子内具有2个以上(甲基)丙烯酰基的化合物(II),其中,化合物(I)和化合物(II)换算成摩尔比在15∶1~1∶30的范围内。上述单层膜具有高亲水性和表面硬度,防雾性、防污性及防带电性优异,作为防雾材料、防污材料及防带电材料、层合体有用。[X]s[M1]l[M2]m (1)
申请公布号 CN101309760A 申请公布日期 2008.11.19
申请号 CN200680042823.4 申请日期 2006.11.27
申请人 三井化学株式会社 发明人 冈崎光树;关亮一;加藤高藏;高木正利
分类号 B05D5/00(2006.01);B05D7/24(2006.01);B32B27/30(2006.01);C08F20/26(2006.01);C08F20/38(2006.01);C08F30/02(2006.01);C09D133/04(2006.01);C09D143/02(2006.01);C09K3/00(2006.01);C09K3/16(2006.01);C09K3/18(2006.01) 主分类号 B05D5/00(2006.01)
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 杨宏军
主权项 1、一种单层膜,所述单层膜具有选自磺酸基、羧基及磷酸基中的至少1种阴离子性亲水基团,其特征在于,表面中的阴离子浓度(Sa)和深部中的阴离子浓度(Da)的阴离子浓度比(Sa/Da)为1.1以上。
地址 日本东京都