| 发明名称 | 复合式研磨垫及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种复合式研磨垫及其制造方法。所述制造方法包括：(a)提供一缓冲层，所述缓冲层为连续多孔性材料，其具有一表面；(b)平整化所述表面，使所述表面形成一平整化表面；和(c)将一抛光层复合于所述平整化表面上，以形成一复合式研磨垫，其中所述抛光层为连续多孔性材料，用以抛光一待抛光元件。藉此，本发明的所述复合式研磨垫具有优选的均匀度，且所述缓冲层与所述抛光层具有优选的结合强度。 | ||
| 申请公布号 | CN101298132A | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
| 申请号 | CN200710107156.X | 申请日期 | 2007.04.30 |
| 申请人 | 三芳化学工业股份有限公司 | 发明人 | 冯崇智;姚伊蓬;王良光;洪永璋 |
| 分类号 | B24D13/14(2006.01);B24D18/00(2006.01);B24B29/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24D13/14(2006.01) |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 刘国伟;林建成 |
| 主权项 | 1.一种复合式研磨垫，包括：一缓冲层，所述缓冲层为连续多孔性材料，其具有一平整化表面；和一抛光层，所述抛光层为连续多孔性材料，复合于所述平整化表面上，以形成所述复合式研磨垫，其中所述抛光层用以抛光一待抛光元件。 | ||
| 地址 | 中国台湾高雄市 | ||