| 发明名称 | 图案化罩幕层的制造方法 | ||
| 摘要 | 一种图案化罩幕层的形成方法，首先于材料层上形成罩幕层。接着，于罩幕层上形成图案化原子层沈积层。然后，以图案化原子层沈积层为罩幕，移除部份罩幕层。 | ||
| 申请公布号 | TW200842493 | 申请公布日期 | 2008.11.01 |
| 申请号 | TW096115030 | 申请日期 | 2007.04.27 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 黄仁瑞;黄则尧;林正平 |
| 分类号 | G03F1/08(2006.01);H01L21/027(2006.01);G03F7/26(2006.01) | 主分类号 | G03F1/08(2006.01) |
| 代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
| 主权项 | |||
| 地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 | ||