| 发明名称 | 低电感等离子室的设备、制造方法、及与之一起使用的装置 | ||
| 摘要 | 在某些方案中，本发明提供一种等离子室，它具有：(1)尺寸至少为1.8米×2.0米的室；和(2)感抗不大于12欧姆至15欧姆的有效电感。该等离子室可以用于，例如，加工平板显示器的衬底。本发明还提供其他多种方案。 | ||
| 申请公布号 | CN100426941C | 申请公布日期 | 2008.10.15 |
| 申请号 | CN200510113260.0 | 申请日期 | 2005.07.12 |
| 申请人 | 应用材料股份有限公司 | 发明人 | C·A·索伦森;J·M·怀特;S·安瓦尔 |
| 分类号 | H05H1/24(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H05H1/24(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 张政权 |
| 主权项 | 1. 一种等离子室，包括：尺寸至少为1.8米×2.0米的室；和在13.56Mhz或者27Mhz的感抗不大于15欧姆的有效电感。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||