发明名称 |
校准量测工具的衬底及其形成方法以及量测工具校准方法 |
摘要 |
为了补偿在量测工具中依赖于取向的变化,本发明提供一种用于校准量测工具的衬底及其形成方法,以及量测工具校准方法。 |
申请公布号 |
CN101286013A |
申请公布日期 |
2008.10.15 |
申请号 |
CN200810100399.5 |
申请日期 |
2008.03.27 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
胡戈·奥古斯帝努斯·约瑟夫·克拉默;安托万·加斯东·玛丽·基尔斯;格拉尔杜斯·玛丽亚·约翰内斯·维吉纳德·扬森 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F1/14(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王波波 |
主权项 |
1、一种形成适用于校准量测工具的衬底的方法,所述方法包括:将辐射敏感材料层提供到衬底表面;使用图案形成装置对第一辐射束进行图案化,所述图案形成装置提供包括第一套图案特征和第二套图案特征的校准图案;将图案化的第一辐射束投影到辐射敏感材料上,以使得由校准图案的第一套图案特征所图案化的辐射形成具有一套延长的图案特征的第一校准标记,并且由校准图案的第二套图案特征所图案化的辐射形成具有一套延长的图案特征的第二校准标记;相对于投影系统以预定角度围绕基本垂直于衬底表面的轴旋转衬底;使用图案形成装置对第二辐射束进行图案化并将它投影到辐射敏感材料上,以使得由校准图案的第一套图案特征所图案化的辐射形成具有一套延长的图案特征的第三校准标记,并且由校准图案的第二套图案特征所图案化的辐射形成具有一套延长的图案特征的第四校准标记;其中所述预定角度使得第二校准标记的延长的图案特征的取向基本上平行于第三校准标记的延长的图案特征的取向。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |