| 发明名称 | 有机膜热转印于其上的转印体的制造方法、有机膜热转印于其上的转印体 | ||
| 摘要 | 一种有机膜热转印于其上的转印体的制造方法，能够有利地抑制质量转印发生。在设置为台阶结构的凸起结构(1)后，其中该台阶结构在基板(10)的表面上的热转印目标部的外缘周围且制成高于热转印目标部的外缘，表面上形成有发光层(166)的施主板(200)作为有机膜形成体，用于将激光(210)的光能转换成热能，并因此将发光层(166)从施主板(200)的表面热转印到基板(10)的表面，由此制造有机膜热转印于其上的转印体。 | ||
| 申请公布号 | CN101277822A | 申请公布日期 | 2008.10.01 |
| 申请号 | CN200680036619.1 | 申请日期 | 2006.07.31 |
| 申请人 | 日本先锋公司 | 发明人 | 大畑浩;宫口敏 |
| 分类号 | B41M5/382(2006.01);B41M5/46(2006.01);H01L51/50(2006.01) | 主分类号 | B41M5/382(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种有机膜热转印于其上的转印体的制造方法，包括：将热能施加在其表面上形成有有机膜的有机膜形成体上，以将所形成的有机膜从所述有机膜形成体的表面热转印到热转印受体的表面以制造有机膜热转印于其上的转印体，其中，对于所述热转印受体的表面，形成为高于所述热转印受体的位置外缘的台阶结构在所述热转印之前至少部分地设置在等于或超出所述热转印受体的位置的外缘的外部上；以及所述有机膜热转印在热转印受体的表面上，以形成有机膜热转印于其上的转印体。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||