| 发明名称 | 用于微细加工的激光抗蚀剂转移 | ||
| 摘要 | 一种用于在基板(18)上形成抗蚀剂图案的方法，其包括：将具有热抗蚀剂材料层的供体元件(12)靠近该基板放置。维持一间隙，以使该热抗蚀剂材料层的表面与该基板的表面被多个间隔元件间隔开。依照该抗蚀剂的图案将热能导向供体元件(12)，从而通过烧蚀转移使热抗蚀剂材料的一部分跨越该间隙自供体元件(12)转移并沉积于基板(18)上，形成该抗蚀剂图案。 | ||
| 申请公布号 | CN101277821A | 申请公布日期 | 2008.10.01 |
| 申请号 | CN200680036390.1 | 申请日期 | 2006.09.15 |
| 申请人 | 伊斯曼柯达公司 | 发明人 | T·J·崔威尔;L·W·塔特;D·B·凯;洪阳泰;G·T·皮尔斯;S·E·菲利普 |
| 分类号 | B41M5/382(2006.01);H05K3/06(2006.01) | 主分类号 | B41M5/382(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 邹雪梅;范赤 |
| 主权项 | 1.一种用于在基板上形成抗蚀剂图案的方法，其包括：a)将包括热抗蚀剂材料层的供体元件靠近该基板放置；b)维持一间隙，以使该热抗蚀剂材料层的表面与该基板的表面被多个间隔元件间隔开；及c)依照该抗蚀剂的图案将热能导向该供体元件，从而通过烧蚀转移使热抗蚀剂材料的一部分跨越该间隙自该供体元件转移并沉积于该基板上，形成该抗蚀剂图案。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||