| 主权项 |
1.一种用于光纤式回转仪之感测器线圈,其组合中包括:a)一第一光纤;b)该第一光纤排布成复数个同心之圆筒层;c)该等层各包含该第一光纤之复数圈匝线;d)该等匝线排布成预定之卷绕式样,使得该第一光纤形成螺管形之线圈并大抵为圆筒形且同心之内、外表面,以及大抵平行且环状之上、下表面所界定;e)该线圈包围在封装材料内;以及f)该被封装之线圈包括有一边界层,后者结合于该等表面之至少一者,以与该被封装线圈形成一种一体型结构。2.如申请专利范围第1项所述之感测器线圈,其进一步之特征在于:a)该线圈具有预定之热膨胀特性;以及b)该边界之热膨胀特性大抵相同于该所封装之线圈。3.如申请专利范围第2项所述之感测器线圈,其中该边界包含有至少一层由一种第二光纤所组成之绕组层。4.如申请专利范围第3项所述之感测器线圈,其中该等第一及第二光纤之诸层包围在该封装材料内。5.如申请专利范围第3项所述之感测器线圈,其中有一第一边界包围该被封装线圈之圆柱形外表面。6.如申请专利范围第3项所述之感测器线圈,其中有一第二边界固定于该被封装线圈之圆柱形内表面内。7.如申请专利范围第3项所述之感测器线圈,其进一步之特征在于:有一大抵为平面之边界固接于该被封装线圈之至少一个环状边缘平面。8.如申请专利范围第7项所述之感测器线圈,其中该边界包含有至少一个由一种第二光纤所组成之环状绕组层。9.如申请专利范围第7项所述之感测器线圈,其中该边界层包含有一大抵为平面之环形盘。10.一光纤式回转仪,其组合中包括:a)一光能源;b)一探测器;c)用于将该光能源之输出耦合至一感测器线圈内之机构,藉此该输出可形成为一对于该感测器线圈内反向传播之光束;d)用于将该感测器线圈之输出耦合至该探测器之机构;e)该感测器线圈包含有一一体式结构,其中包括一反应元件,后者包含有一绕成预定式样且形成复数个匝线层之第一光纤;f)该一体式结构包括有一固接于该反应件之第二元件,该第二元件覆盖该反应元件之一表面;以及g)该回转仪置成使得该光能源之输出可耦合至该反应元件内,且该反应元件之输出可耦合至该探测器。11.如申请专利范围第10项所述之光纤式回转仪,其进一步包括:a)该反应元件包含有一螺管形之线圈,并且后者大抵为圆柱形且同心之内、外表面,以及大抵为平面且环状之上、下表面所界定;b)该线圈被包围在封装材料内;以及c)该第二元件结合至该等表面之至少一者,以与该被封装线圈形成一种一体式结构。12.如申请专利范围第11项所述之光铁式回转仪,其中:a)该被封装之线圈具有预定之热膨胀特性;以及b)该第二元件之热膨胀特性大抵相同于该被封装线圈。13.如申请专利范围第12项所述之光纤式回转仪,其中该第二元件包含有至少一层由一种第二光纤所组成之绕组层。14.如申请专利范围第13项所述之光纤式回转仪,其中该等第一及第二光纤之诸层被包围在该封装材料内。15.如申请专利范围第13项所述之光纤式回转仪,其中该第二元件包含有一第一边界,包围该所封装线圈之圆柱形外表面。16.如申请专利范围第13项所述之光纤式回转仪,其中该第二元件包含有一第二边界,且后者固定于该被封装线圈之圆柱形内表面内。17.如申请专利范围第12项所述之光纤式回转仪,其进一步之特征在于:该第二元件包含有一大抵为平面之边界,且后者固接于该被封装线圈之至少一个环状边缘平面。18.如申请专利范围第17项所述之光纤式迥转仪,其中该边界包含有至少一个由一种第二光纤所组成之环状绕组层。19.如申请专利范围第17项所述之光纤式回转仪,其中该边界包含有一大抵为平面之环形盘。图式简单说明:第一图系一光纤回转仪其配用一依据本发明之感测器线圈时之示意图;第二图系经解析而得的对Shupe综合效应影响程度之曲线图,在此将之作为光纤于所封装感测器线圈内位置之函数;第三图A与第三图B分别为依据本发明之一回转仪感测器线圈26之立体图及其沿第三图A之线3B-3B剖取之某一部份之剖面图;第四图系一回转仪感测器以分立形态安装在一突缘上之立体图;第五图A与第五图B分别系依据第四图之一回转仪感测器线图,其上半个线圈之最后两层匝线之每一匝,以及下半个线圈之最后两层匝线之每一匝,经解析而得的对Shupe偏差之影响曲线图;以及第六图A至第六图E系依据本发明的回转仪感测器线圈其各种实施例之立体图与剖面图。 |
