| 发明名称 | 疏水性表面的掩模 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种疏水性表面的掩模。该掩模包括：一基板；多个图案，形成于该基板上；以及一形成于未覆盖所述图案的该基板上的自组装单层。该自组装单层包括一通过汽化工艺或溶液工艺形成的烷基三氯硅烷层，例如十八烷基三氯硅烷层或全氟十烷基三氯硅烷层。 | ||
| 申请公布号 | CN101266403A | 申请公布日期 | 2008.09.17 |
| 申请号 | CN200710143734.5 | 申请日期 | 2007.08.02 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 郑智文 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F1/08(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 潘培坤 |
| 主权项 | 1. 一种疏水性表面的掩模，包括：一基板；多个图案，形成于该基板上；以及一自组装单层，形成于未覆盖所述图案的该基板上。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||