发明名称 显像液的浓度调节方法及调节装置以及显像液
摘要 本发明在于提供,可将使用于光阻剂的显像装置之硷性的显像液的硷浓度调整成可进行高品质的显像处理之显像液的浓度调节方法及调制装置。在显像液的浓度调节方法,测定显像液的硷浓度及显像液中的碳酸盐浓度,根据可发挥进行显像处理所获得的CD值成为一定的值之溶解能的硷浓度与碳酸盐浓度之预先所制作的关系,调节硷浓度。又,显像液的调制装置具备有:调制槽;将显像液供给至显像程序之供给管;承接使用过的显像液之回收管;将新的显像液原液供给至调制槽之原液供给管;用来检测显像液的硷浓度及显像液中的碳酸盐浓度之浓度计;及依据特定的关系,控制显像液原液的供给之控制装置。
申请公布号 TW200837513 申请公布日期 2008.09.16
申请号 TW096145699 申请日期 2007.11.30
申请人 三菱化学工程股份有限公司;AZ电子材料股份有限公司 发明人 高崎纪博;杉本建二;棚桥亮太;板东嘉文;能谷敦子;谷口克人
分类号 G03F7/32(2006.01);G03D3/00(2006.01) 主分类号 G03F7/32(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本