使用双型图案之光罩进行接触洞图案之曝光方法

摘要

一种使用双型图案之光罩进行接触洞图案之曝光方法，系先提供一半导体基底，其表面上包含有一光阻层。然后于该光阻层上方提供一光罩，其包含有一双型的开口图案。而后提供一光源，其可穿过该光罩之双型的开口图案，以于该光阻层上曝光出一具有高长／宽比例的接触洞图案，并可降低接触洞图案角落的圆滑效应。