| 发明名称 | 具有通向周围空气的沟道或路径的有槽压板 | ||
| 摘要 | 一种用于在半导体器件的化学机械抛光中使用的抛光垫(120)和压板(130)组件，包括具有沟槽或沟道表面(136)的压板(130)，所述沟槽或沟道表面(136)通过压板(130)外围的非沟槽部分(131)与工艺环境相密封隔开。另外，压板(130)包括一个或多个用于提供通向环境或低于室温的环境的路径的通道(132)。密封区域(131)和通道(132)的组合防止液体、蒸汽或其它不希望的污染物渗透在垫和压板之间，以及还排出在垫和压板之间俘获的气穴。 | ||
| 申请公布号 | CN101257996A | 申请公布日期 | 2008.09.03 |
| 申请号 | CN200680032674.3 | 申请日期 | 2006.08.29 |
| 申请人 | 飞思卡尔半导体公司 | 发明人 | 布赖恩·E·博特马;史蒂芬·F·亚伯拉罕;亚历克斯·P·帕马塔特 |
| 分类号 | B24B7/00(2006.01) | 主分类号 | B24B7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 黄启行;穆德骏 |
| 主权项 | 1.一种用于进行化学机械抛光的设备，包括：具有第一表面和第二表面的可旋转压板，用于粘着地粘附抛光垫；在所述压板的上表面形成的预定的沟槽图案，其中，所述沟槽图案不延伸至所述压板的所述上表面的外围边缘；以及在所述压板中形成的至少一个通道，以将所述沟槽图案中的第一上表面开口连接于所述压板中的第二开口，以便所述压板和所述抛光垫之间俘获的空气能经由所述通道排出，而不允许来自抛光工艺的流体或污染物渗透在所述压板和所述抛光垫之间。 | ||
| 地址 | 美国得克萨斯 | ||