| 发明名称 |
敏辐射线性组成物，二氧化矽系被膜之形成方法，二氧化矽系被膜，具有二氧化矽系被膜的装置及构件，及绝缘膜用感光剂 |
| 摘要 |
本发明系提供一种感光性树脂组成物，其系含有(a)、(b)及(c)成分，(a)成分：使含有以下述一般式(1)所示化合物之矽烷化合物水解缩合后所得之矽氧烷树脂、(b)成分：溶解前述(a)成分之溶剂、(c)成分： 二叠氮磺酸酯化合物，#P 096135542P01.bmp(式(1)中，R#sP!1#eP!表示有机基；A系2价的有机基；X表示水解性基，且同一分子内之复数个X系可相同或相异)。 |
| 申请公布号 |
TW200836010 |
申请公布日期 |
2008.09.01 |
| 申请号 |
TW096135542 |
申请日期 |
2007.09.21 |
| 申请人 |
日立化成工业股份有限公司 |
发明人 |
阿部浩一;粕谷圭;丸山钢志;青木阳介;小岛恭子;龙崎大介 |
| 分类号 |
G03F7/075(2006.01);G03F7/022(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/075(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
