| 摘要 |
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Abscheiden eines dielektrischen Werkstoffs mit einem Übergangsmetalloxid. In einem anfänglichen Schritt wird ein Substrat bereitgestellt. In einem weiteren Schritt werden ein erster Präkursor mit einer übergangsmetallhaltigen Verbindung und ein zweiter Präkursor, der überwiegend wenigstens eines von Wasserdampf, Ozon, Sauerstoff und Sauerstoffplasma aufweist, sequentiell angewandt, um über dem Substrat eine Schicht eines übergangsmetallhaltigen Werkstoffs abzuscheiden. In einem weiteren Schritt werden ein dritter Präkursor mit einer dotierstoffhaltigen Verbindung und ein vierter Präkursor, der überwiegend wenigstens eines von Wasserdampf, Ozon, Sauerstoff und Sauerstoffplasma aufweist, sequentiell angewandt, um über dem Substrat eine Schicht eines dotierstoffhaltigen Wasserstoffs abzuscheiden. Das Übergangsmetall weist Zirkonium oder/und Hafnium auf. Der Dotierstoff weist wenigstens eines von Barium, Strontium, Calcium, Niob, Wismut, Magenesium und Cer auf.
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